考慮等離子體技術和光化學氧化技術的適用范圍和運行狀態,一般以“低溫等離子體+光氧化”組合工藝為主處理系統,在該組合工藝前端增加旋流板塔,在末端設置噴淋洗滌塔,從而獲得適用性好、處理能力強、操作簡單的“旋流板塔+等離子體+光氧化+噴淋洗滌”系統處理工藝。樸華科技將流程說明如下:

(1) 旋流板塔
煉膠廢氣通過袋式過濾器后,仍殘余一定量固相的炭黑等顆粒物及油性狀物質。旋流板塔的主要作用是去除廢氣中的顆粒物和油性物質,以保障后續系統的正常運行。膠廢氣通常含有一定量的固相顆粒物及油性狀物質,這些物質對等離子體裝置和光化學氧化裝置的效率和使用壽命具有一定的影響,為保證等離子體裝置和光化學氧化裝置的正常運行,順利實現廢氣的凈化,位于最前端的微旋流器,去除氣體中顆粒物和油性物質。
(2) 低溫等離子體裝置
煉膠廢氣經微旋流器去除顆粒物和油性物質后進入等離子裝置,大部分污染物受等離子體中的高能電子、自由基等粒子的作用,使得污染物分子在短時間內打開化學鍵,直接發生分解反應生成CO2和H2O,或從基態躍遷為活勝態隨后發生各種后續反應,轉化為無害物質或短鏈小分子有機物。生成的部分短鏈小分子有機物和部分未被等離子體凈化的污染物在催化劑上進一步反應,轉化為無害物質隨廢氣進入光化學氧化裝置。等離子體技術與催化劑協同作用可提升等離子體裝置去除污染物的性能。

案例:有機廢氣處理設備-三室式RTO設備
(3) 光氧化裝置
受到電壓、能量利用率等因素的制約,等離子體裝置不能去除所有的污染物且部分污染物并不是完全轉化為CO和HO,而是生成短鏈小分子有機物,無法完全實現排放目標,需要光化學氧化裝置將短鏈小分子有機物進一步氧化為CO2和H2O,同時去除大部分未被等離子體裝置去除的臭味氣體。在光化學氧化裝置中大部分未被等離子體裝置分解的污染物和因污染物未完全分解生產的短鏈小分子受到紫外燈管產生的高能光束的轟擊和生成的臭氧的強氧化作用生成CO2和H2O。

案例:有機廢氣處理設備-UV光氧催化+活性炭吸附設備
(4) 噴淋裝置
由于光化學氧化過程中生成了大量的O3,廢氣濃度存在一定的波動,且為了保證凈化效果,O3的生產量可能會大于氧化污染的實際用量。大部分的O3在氧化有機物時被消耗,但仍可能存在部分O3在氧化有機物后隨尾氣排出,由于O3也是一種大氣污染物,需要處理后才可排放,所以根據其微溶于水的特性,可采用噴淋裝置去除過量的O3。
此外,噴淋裝置還可去除廢氣在等離子體裝置中的反應最終產物,如NO3等和未被光化學氧化的可溶于水的部分短鏈小分子有機物,噴淋產生的廢水進入廢水處理系統進行凈化處理。
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